国内首台自主研发“光刻机”面世
新华社1月13日电 国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为,芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术,填补了国内光刻机在该项领域的空白,并且在国际同类产品中处于先进水平。 记者从芯硕半导体公司了解到,该公司此项技术投入资金5000万元,历经一年时间,两台光刻机已于去年12月正式下线,其分辨率已达到0.65微米。相对于同类产品,芯硕的“光刻机”具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势。芯硕半导体公司董事、副总裁胡亦宁预测,在今年7月、8月公司新厂房完工之后,预期每年可生产100台,其中60%的产品将供应给海外市场。 |