新华社1月13日电 国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机日前在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为，芯硕半导体（中国）有限公司的“光刻机”技术，填补了国内光刻机在该项领域的空白，并且在国际同类产品中处于先进水平。
　　　　记者从芯硕半导体公司了解到，该公司此项技术投入资金5000万元，历经一年时间，两台光刻机已于去年12月正式下线，其分辨率已达到0．65微米。相对于同类产品，芯硕的“光刻机”具有污染小、产能高、运行成本低、应用范围广、操作便捷等多项优势。芯硕半导体公司董事、副总裁胡亦宁预测，在今年7月、8月公司新厂房完工之后，预期每年可生产100台，其中60％的产品将供应给海外市场。